Ministerstvo zahraničních věcí ČR

         česky   english        

rozšířené vyhledávání

Přejít na menu

XX. Diplomatický salon JDI s Alexandrem Sporýšem, Michalem Brožou, a Michaleou Ptáčkovou na téma „Mladá generace a 75 let Spojených národů“
Foto: © MZV ČR / MFA CZ
Upozornění na článek Tisknout Zmenšit písmo Zvětšit písmo

XX. Diplomatický salon JDI s Alexandrem Sporýšem, Michalem Brožou a Michaleou Ptáčkovou na téma „Mladá generace a 75 let Spojených národů“

 

Hosty jubilejního 20. Diplomatického salonu, jenž se konal 19. listopadu 2020 poprvé v on-line podobě, byly osobnosti se zkušenostmi z různých orgánů širokého působení Organizace spojených národů (OSN). Akce byla tradičně organizována studentskou organizací Junior Diplomat Initiative (JDI) působící při Fakultě mezinárodních vztahů VŠE v Praze a Odborem veřejné diplomacie MZV ČR.
 

Pan Alexandr Sporýš je ředitelem Odboru mnohostranných ekonomických vztahů (OMEV) MZV ČR. V minulosti působil mimo jiné jako člen Stálé mise ČR při OSN v New Yorku i jako člen misí OSN v Afghánistánu (UNAMA) a na Západní Sahaře (MINURSO).

Pan Michal Broža působí jako National Information Officer Informačního centra OSN v Praze a současně je pověřený jeho řízením. Má zkušenosti z Mise OSN v Libérii (UNMIL) a také ze Světové banky.

Slečna Michaela Ptáčková působí jako dobrovolnice OSN v UNDP Bosna a Hercegovina.

 Moderátorem Diplomatického salonu byl Ing. Jan Martin Rolenc, Ph.D., odborný asistent na Katedře mezinárodních studií a diplomacie FMV.

V úvodu Salonu všichni hosté poutavě popsali svou zkušenost s OSN a publiku přiblížili, co pro ně OSN znamená a také, jaké jsou hlavní hodnoty a oblasti působení této mezinárodní organizace. Hosté se shodli, že i po tři čtvrtině století je OSN důležitým a smysluplným globálním aktérem. Byly zmíněny přínosy, ale i nedostatky této organizace. OSN se musí dále vyvíjet a efektivně reagovat na výzvy, kterým svět aktuálně čelí, jako je změna klimatu, problematika životního prostředí,  důraz na udržitelný rozvoj či lepší využití nových technologií.

.